TESCAN MIRA是最新推出的第四代高性能扫描电子显微镜,配置有高亮度肖特基场发射电子枪,在TESCAN的Essence™操作软件的同一个窗口中实现了SEM成像和实时元素分析。这种结合大大简化了从样品中获取形貌和元素数据的过程,从而使得MIRA成为质量控制、失效分析和实验室常规材料检测的有效分析解决方案。
TESCAN MIRA是最新推出的第四代高性能扫描电子显微镜,配置有高亮度肖特基场发射电子枪,在TESCAN的Essence™操作软件的同一个窗口中实现了SEM成像和实时元素分析。这种结合大大简化了从样品中获取形貌和元素数据的过程,从而使得MIRA成为质量控制、失效分析和实验室常规材料检测的有效分析解决方案。
*完全集成的能谱分析(Essence™EDS)-在SEM实时扫描窗口中完成扫描电镜成像和元素成分分析
*TESCAN独特的无光阑光路设计可快速获得最佳的成像和分析条件
*最低放大倍数可至2倍,轻松且精确地对样品进行导航
*直观且模块化Essence™软件,任何经验水平的用户,均可轻松操作
*Essence™3D防碰撞模型,当样品台和样品移动时,可保证安装在样品室内附件的安全
*标配SingleVac模式,可直接观察不导电样品或电子束敏感样品
*可选配的镜筒内SE和BSE探测器结合电子束减速技术极大的提升了低电压下的成像性能
*提升操作简易性,并减少数据采集时间
*样品室内BSE探测器图像具有优异的立体感,而镜筒内BSE探测器具有低能量、高敏感度、高分辨率的优点,两个探测器同时工作,可采集不同出射角度的BSE信号,获得更多的样品衬度信息。
*使用样品室SE探测器,镜筒内的In-BeamSE探测器和In-Beam SE(BDM) 探测器对样品进行完整的形貌表征。
*集成的Essence™EDS能谱分析功能,利用在Essence™电镜专用控制软件的单个实时窗口中进行SEM成像和元素成分分析的优势可以更快地获取分析数据。
*适用于金属样品的亚微米级高分辨检测
*对亚微米级颗粒、团聚物和其它材料进行高分辨率成像
*表征亚微米尺度的地质样品的形貌和成分
*亚微米级半导体器件的质量分析
电子枪 | 肖特基场发射电子枪 | |
镜筒 | 大视野光路(Wide Field Optic™ )、中间镜(Intermediate Lens™)、实时电子東追踪技术(In-Flight Tracing™ | |
分辨率 | 高真空模式1.2nm@30keV(SE)1.0nm@30kev(In-Beam SE*)3.5nm@lkeV(In-Beam SE*)1.8nm@1keV(BDT*) | 低真空模式 2.0nm@30keV(BSE*) 1.8nm@30keV(GsD*) *选配件 |
放大倍率 | 2-1,000,000倍 | |
束流范围 | ~400nA,连续可调 | |
电子束着陆能量 | 200ev-30kev(选配BDT*时最低可至50ev) | |
视野范围 | >50mm@最大工作距离 | |
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